配有HMDS氣體檢測(cè)的HMDS烘箱

      HMDS烘箱用于光刻前基板的疏水性處理工藝。它是將HMDS（六甲基二硅胺烷）通過(guò)氣相沉積的方法均勻的涂布在基底表面，使基底表面接觸角增大，基底表面由親水性變?yōu)槭杷裕蜁?huì)增強(qiáng)光刻膠的粘附性。避免了顯影后光刻膠漂膠、裂膠的不良現(xiàn)象。

但是HMDS具有一定的傷害性，大量吸入會(huì)刺激與灼傷鼻子與呼吸道器官系統(tǒng)，會(huì)產(chǎn)生頭痛、呼吸困難、呼吸急銷遲促、咳嗽以及眼睛紅腫并感到眼睛來(lái)自刺痛與灼傷。所以，在使用過(guò)程中的安全性不容忽視。

我司HMDS烘箱 不同的設(shè)計(jì)原理，使得整個(gè)工藝過(guò)程都在密閉的回路中完成，并有效排出殘余氣體，同時(shí)具有HMDS實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)功能，具有泄露報(bào)J提示音。

溫度范圍：RT+10-200℃

真空度：≤1torr

操作方式：一鍵運(yùn)行 

真空泵：無(wú)油渦旋真空泵

容積：40L/90L/210L,可定制

產(chǎn)品兼容性：2~12寸晶圓及碎片、方片等

適用行業(yè)：MEMS、濾波、放大、功率等器件，晶圓、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。