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六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備 工業(yè)烘箱

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備 工業(yè)烘箱

簡要描述:

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備的作用是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中,通常會(huì)用到一些例如藍(lán)寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想,這會(huì)導(dǎo)致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋"甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善,這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備的作用

    六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理的工藝是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中,通常會(huì)用到一些例如藍(lán)寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想,這會(huì)導(dǎo)致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋"甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善,這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備的性能  


HMDS藥液低液位報(bào)警:

自動(dòng)吸取HMDS:

可自動(dòng)添加HMDS:

HMDS藥液泄漏報(bào)警:

HMDS氣體管路加熱系統(tǒng):

參數(shù)記錄功能:

溫度與程序互鎖功能:

容積大小:350*350*350/450*450*450/600*600*600(mm)可定制

溫度范圍:RT+10-250℃

真空度:≤133pa(1torr)       

控制系統(tǒng);人機(jī)界面+PLC

擱板層數(shù):2層

HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

真空泵: 渦旋無油泵


不正確的六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理方法
 如果液體的HMDS被直接旋涂在襯底上,HMDS層只能起到物理上的粘附層的作用,并不能改善粘附性;其次,HMDS層在前烘過程中釋放出氨,從襯底附近的進(jìn)入交聯(lián)的光刻膠層中,從而抑制顯影過程。

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